研究中心

國家地方聯合工程研究中心

中心簡介
重大任務
目標産品
協同創新
亮點成果
研發設施

新聞資訊

2019-08-19

蘇大維格子公司维业达与南通市经济技术开发区管委会成功签订投资协议

蘇大維格子公司维业达专注于中大尺寸柔性电容触控屏的研发与制造,在全球触控屏产品市场中处于技术优势地位。为加快新型柔性触控屏技术的产业化进度,2019年8月18日,维业达拟以自筹资金出资5亿元人民币设立全资子公司维业达科技(江苏)有限公司(暂定名)。同时,维业达与南通市经济技术开发区管理委员会签署投资协议,约定维业达在南通经济技术开发区投资建设“高性能柔性触控屏及模组和研发中心项目”,并以维业达江苏为主体实施本项目,项目初步预计一期总投资18亿元,用地约105亩。

  • 更多信息

2019-08-09

常州市市委书记汪泉莅临蘇大維格集团子公司华日升调研

汪書記一行在華日升總經理陸亞建的陪同下參觀考察了公司的“科技文化展廳”,參觀期間陸總詳細地介紹了反光材料行業的大體情況,以及華日升近年來在微棱鏡國産化道路上所進行的技術創新、産業化工作。陸總說,我們公司投資建設的微棱鏡型反光材料産業化項目在今年被列爲省重大科技成果轉化項目,計劃明年下半年逐步達産。

  • 更多信息

2019-07-31

蘇大維格:预期今年底完成一台110英寸微图形光刻直写设备和配套光刻设施

蘇大維格发明了一种高效微纳结构并行直写方法。用数字光场调控与脉冲叠加曝光方法,将海量数据光电转换成微纳3D形貌。发明了“多台阶二元光学数字光场叠加写入模式”和“灰度数字模板”,通过光场灰度调控与积分写入,使得微纳3D形貌的直写效率提高了(2N/N)倍。攻克了“海量数据设计→微纳结构光场→3D形貌”纳米制造领域的重大难题。横向数字分辨率100nm,3D形貌0-50?m,数据处理能力达40Tb。

  • 更多信息

2019-07-31

蘇大維格:建成环保3D光学转移产品产线

國家環保政策鼓勵綠色印刷的研發與産業應用。當前印刷包裝産業普遍應用的光學轉移膜,其生産過程中的塗布含固量15%~30%,大量的有機溶劑需要處理,煙草行業一年2000萬大箱的轉移包裝材料,以17%固含量的轉移塗料計算,每年約使用11500噸~12500噸塗料,産生9500~10375噸有機溶劑。因此,降低甚至不使用含有有機溶劑的材料,是實現轉移膜的綠色制程的關鍵。

  • 更多信息
 

背光模組超薄導光板(膜)

熱壓印工藝將精密模具上微結構複制到光滑塑性板材或薄膜表面,微光學網點結構有效地將全內反射進入導光板(膜)光線導出表面。通過微結構優化中大尺寸導光板(膜),光線從接近正出射角度導出,亮度更高,更均勻。

  • 更多信息
 

大尺寸透明導電膜(模組)

“基于柔性納米壓印技術”的新型透明導電膜制造技術,采用micro-metal-mesh(M3)制程工藝,顛覆了精密電路需要蝕刻的傳統工藝,通過納米壓印和增材制造(選擇性生長),獲得大幅面高性能透明導電膜和自支撐透明導電材料

  • 更多信息
 

创新 + 资本+ 产业的官助民营新型研究院

更多信息

苏州蘇大維格科技集团股份有限公司

 

總部

蘇州市新昌路68號,蘇州工業園區(獨墅湖大道南側,與金堰路交叉口)
电话:+86-512-6286 8882
传真:+86-512-6260 0602
郵箱:info@svgoptronics.com

  • Contact

最新公告

2019-04-08

蘇大維格喜获2018年度江苏省科学技术奖一等奖

苏州蘇大維格科技集团股份有限公司(以下简称“公司”)于近日收到江苏 省人民政府下发的《省政府关于 2018 年度江苏省科学技术奖励的决定》[苏政发 (2019)22 号],公司获得 2018 年度江苏省科学技术奖一等奖。

更多信息

2019-01-09

項目介紹:面向微納3D形貌的紫外光刻直寫技術與設備

超薄化、輕量化意味著微納結構的運用。然而,大面積3D微納結構的設計與制造面臨巨大挑戰。首先,大面積3D微納結構涉及海量數據處理與設計。例如,一個超薄導光器件上的微透鏡有數千萬個以上;一件口徑10mm以上的超透鏡,含有數十億到數百億個數據單元;一幅大尺寸透明電路傳感器涉及數十Tb以上的數據量;大口徑薄膜成像透鏡涉及精確3D形貌,數據量會數量級增大;第二,將設計數據轉換成微納結構的途徑與效率。如何將這麽龐大數據直接轉換成微納3D結構?不僅需要高速率海量數據並行處理、壓縮、傳輸與轉化技術,還需轉換系統的高精度、可調性與可靠性;第三,先進工藝技術保障。大面積襯底伴隨著不平整度遠大于光刻系統的焦深,因此,必須解決襯底不平整性對微結構分辨率和保真度的影響,解決與成像焦深的矛盾,才能實現高保真3D微結構的高效率制備。

更多信息

2019-01-09

項目介紹:光場調控的納米光刻設備NanoCrystal200

研究表明,微纳尺度界面与光电子相互作用产生的效应,是设计超材料、超表面的新途径。微纳结构制造技术是实现薄膜成像、透明导电、电磁隐身等技术基础。由于3D 形貌及其排列精度对光子材料与器件的特性有极其重要的影响,因而,在大面积衬底上实现纳米精度的微纳结构的高效制备,一直是国际关注的重大共性难题。

更多信息

2019-01-09

項目介紹:微納3D打印/光刻技術與設備

在微結構打印方案中,已有的3D打印技術存在諸多限制,未有效解決器件尺寸與精度之間的矛盾、也存在3D結構打印保真度與可靠性不協調的難題。1、利用超快激光的“雙光子效應”的3D打印,分辨率可達0.1微米,但串行寫入模式,效率極低、對環境穩定性要求極高,打印尺寸一般小于300微米。由于耗時太長,所以,可靠性降低;受制于非線性材料特性和處理工藝,打印一致性很難保障;2、光固化3D打印(SLA),利用膠槽供膠與DLP投影光逐層打印的方法,打印的特征尺寸一般大于50微米,受投影比例限制,打印面積數毫米。由于累積曝光效應,對膠槽中光固化膠的吸收特性有嚴格要求,易導致打印的結構展寬,尤其對大深寬比微結構的打印,失真嚴重。

更多信息
友情链接:菠萝彩-首页  500彩票-首页  口袋娱乐-首页  万邦娱乐注册-首页  百宝彩票-首页