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國家地方聯合工程研究中心

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新聞資訊

2021-01-21

蘇大維格:环保3D光学转移材料迅速增长

自公司第一款環保3D光學轉移材料投入市場後,因其生産過程中無溶劑排放、能耗低的優點完全符合國家綠色生産的要求,同時因其具有超高結構保真度,能夠實現50?m以內深度複雜結構的穩定批量生産,在印刷包裝行業引起衆多關注。

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2021-01-21

再添荣誉 | 陈林森荣获全国杰出工程师奖

12月30日,2020年(第四届)杰出工程师奖获奖名单在北京揭晓,经过63位评审专家(其中包括20位院士)认真评选,杰出工程师奖奖励委员会审定,微纳光制造领域科学家、蘇大維格董事长陈林森从全国近千名申请者中脱颖而出,荣膺第四届全国杰出工程师奖。

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2021-01-21

2020 实“鼠”不易,2021“牛”转乾坤—蘇大維格集团祝您元旦快乐!(文末有惊喜)

我们告别极不平凡的2020,迎来了充满希望的2021。新一轮科技革命和产业变革深入发展,颠覆性技术创新不断涌现,重要领域产业变革正从导入期向拓展期转变。新的一年,蘇大維格集团仍将以坚如磐石的信心、坚韧不拔的毅力、只争朝夕的干劲,日积月累、久久为功,面向产业技术变革,协同产业链共同建长板、补短板,努力实现更多“从0到1、从1到N”的突破。

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2020-12-08

蘇大維格亮相第十六届证卡票签安全技术展暨高峰论坛

在今天召开的第十六届证卡票签安全技术展暨高峰论坛上,蘇大維格集团总裁朱志坚先生就“3D光刻在高端防伪领域的应用展望”展开了精彩演讲,为与会者揭秘了蘇大維格是如何基于多维超构表面的新算法、直写光刻的创新手段以及微纳压印功能化和批量化等多重手段,实现产品从器件设计到结构图形化、到批量复制、到材料功能化以及最终器件集成的全链条一体化设计与制造的全过程。

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背光模組超薄導光板(膜)

熱壓印工藝將精密模具上微結構複制到光滑塑性板材或薄膜表面,微光學網點結構有效地將全內反射進入導光板(膜)光線導出表面。通過微結構優化中大尺寸導光板(膜),光線從接近正出射角度導出,亮度更高,更均勻。

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大尺寸透明導電膜(模組)

“基于柔性納米壓印技術”的新型透明導電膜制造技術,采用micro-metal-mesh(M3)制程工藝,顛覆了精密電路需要蝕刻的傳統工藝,通過納米壓印和增材制造(選擇性生長),獲得大幅面高性能透明導電膜和自支撐透明導電材料

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创新 + 资本+ 产业的官助民营新型研究院

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苏州蘇大維格科技集团股份有限公司

 

總部

蘇州市新昌路68號,蘇州工業園區(獨墅湖大道南側,與金堰路交叉口)
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传真:+86-512-6260 0602
郵箱:info@svgoptronics.com

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最新公告

2019-04-08

蘇大維格喜获2018年度江苏省科学技术奖一等奖

苏州蘇大維格科技集团股份有限公司(以下简称“公司”)于近日收到江苏 省人民政府下发的《省政府关于 2018 年度江苏省科学技术奖励的决定》[苏政发 (2019)22 号],公司获得 2018 年度江苏省科学技术奖一等奖。

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2019-01-09

項目介紹:面向微納3D形貌的紫外光刻直寫技術與設備

超薄化、輕量化意味著微納結構的運用。然而,大面積3D微納結構的設計與制造面臨巨大挑戰。首先,大面積3D微納結構涉及海量數據處理與設計。例如,一個超薄導光器件上的微透鏡有數千萬個以上;一件口徑10mm以上的超透鏡,含有數十億到數百億個數據單元;一幅大尺寸透明電路傳感器涉及數十Tb以上的數據量;大口徑薄膜成像透鏡涉及精確3D形貌,數據量會數量級增大;第二,將設計數據轉換成微納結構的途徑與效率。如何將這麽龐大數據直接轉換成微納3D結構?不僅需要高速率海量數據並行處理、壓縮、傳輸與轉化技術,還需轉換系統的高精度、可調性與可靠性;第三,先進工藝技術保障。大面積襯底伴隨著不平整度遠大于光刻系統的焦深,因此,必須解決襯底不平整性對微結構分辨率和保真度的影響,解決與成像焦深的矛盾,才能實現高保真3D微結構的高效率制備。

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2019-01-09

項目介紹:光場調控的納米光刻設備NanoCrystal200

研究表明,微纳尺度界面与光电子相互作用产生的效应,是设计超材料、超表面的新途径。微纳结构制造技术是实现薄膜成像、透明导电、电磁隐身等技术基础。由于3D 形貌及其排列精度对光子材料与器件的特性有极其重要的影响,因而,在大面积衬底上实现纳米精度的微纳结构的高效制备,一直是国际关注的重大共性难题。

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2019-01-09

項目介紹:微納3D打印/光刻技術與設備

在微結構打印方案中,已有的3D打印技術存在諸多限制,未有效解決器件尺寸與精度之間的矛盾、也存在3D結構打印保真度與可靠性不協調的難題。1、利用超快激光的“雙光子效應”的3D打印,分辨率可達0.1微米,但串行寫入模式,效率極低、對環境穩定性要求極高,打印尺寸一般小于300微米。由于耗時太長,所以,可靠性降低;受制于非線性材料特性和處理工藝,打印一致性很難保障;2、光固化3D打印(SLA),利用膠槽供膠與DLP投影光逐層打印的方法,打印的特征尺寸一般大于50微米,受投影比例限制,打印面積數毫米。由于累積曝光效應,對膠槽中光固化膠的吸收特性有嚴格要求,易導致打印的結構展寬,尤其對大深寬比微結構的打印,失真嚴重。

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